Varying stress of SiOxCy thin films deposited by plasma polymerization

Wei Bo Liao, Ya Chen Chang, Cheng Chung Jaing, Ching Long Cheng, Cheng Chung Lee, Hung Sen Wei, Chien Cheng Kuo

研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審

3 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Varying stress of SiOxCy thin films deposited by plasma polymerization」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Engineering

Material Science