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Ultra-flat AlN grown with a pulsed H
2
etching condition
Chun Pin Huang, Kapil Gupta, Chuan Pu Liu,
Kun Yu Lai
光電科學與工程學系
研究成果
:
雜誌貢獻
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期刊論文
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同行評審
7
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
研究計畫
(1)
指紋
深入研究「Ultra-flat AlN grown with a pulsed H
2
etching condition」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Annealing
100%
Root Mean Square
100%
Metal-organic Chemical Vapor Deposition (MOCVD)
100%
Surface Roughness
100%
Etching Process
100%
Substrate Temperature
100%
Hillocks
100%
AlN Buffer Layer
100%
Initial Growth
100%
Manufacturing Methods
100%
Etching Conditions
100%
NH 3
100%
Crystal nucleation
100%
Cost-effective Manufacturing
100%
AlN Epilayer
100%
Ultraflat
100%
Single Substrate
100%
Ultraflat Surfaces
100%
Material Science
Aluminum Nitride
100%
Nucleation
25%
Surface Roughness
25%
Epilayers
25%
Metal-Organic Chemical Vapor Deposition
25%
Surface (Surface Science)
25%