The RTN measurement technique on leakage path finding in advanced high-k metal gate CMOS devices

E. R. Hsieh, P. Y. Lu, Steve S. Chung, J. C. Ke, C. W. Yang, C. T. Tsai, T. R. Yew

研究成果: 書貢獻/報告類型 › 會議論文篇章 › 同行評審

3 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「The RTN measurement technique on leakage path finding in advanced high-k metal gate CMOS devices」主題。共同形成了獨特的指紋。

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