跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立中央大學 首頁
說明與常見問題
English
中文
首頁
人才檔案
研究單位
研究計畫
研究成果
資料集
榮譽/獲獎
學術活動
新聞/媒體
影響
按專業知識、姓名或所屬機構搜尋
The influence of titanium on the properties of zinc oxide films deposited by radio frequency magnetron sputtering
Jeng Lin Chung,
Jyh Chen Chen
,
Chung Jen Tseng
機械工程學系
研究成果
:
雜誌貢獻
›
期刊論文
›
同行評審
35
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「The influence of titanium on the properties of zinc oxide films deposited by radio frequency magnetron sputtering」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Magnetron sputtering
100%
Zinc oxide
99%
Oxide films
92%
Titanium
72%
Substrates
26%
Carrier concentration
17%
Energy gap
14%
Argon
14%
Structural properties
13%
Crystalline materials
13%
Thin films
11%
Wavelength
11%
Temperature
10%
Glass
9%
Physics & Astronomy
zinc oxides
72%
oxide films
67%
radio frequencies
64%
magnetron sputtering
62%
titanium
62%
transmittance
10%
argon
9%
atmospheres
8%
electrical resistivity
7%
temperature
7%
glass
7%
thin films
6%
wavelengths
5%
Chemical Compounds
Magnetron Sputtering
86%
Zinc Oxide
72%
Liquid Film
36%
Pressure
9%
Transmittance
8%
Glass Substrate
8%
Polycrystalline Solid
7%
Band Gap
6%
Wavelength
5%
Crystal Structure
4%