The dependence of ECR-CVD processing parameters on deposition uniformity of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films

Li Cheng Hu, Yong Shiang Li, Chien Chieh Lee, Jeng Yang Cheng, I. Chen Chen, Tomi T. Li

研究成果: 書貢獻/報告類型 › 會議論文篇章 › 同行評審

指紋

深入研究「The dependence of ECR-CVD processing parameters on deposition uniformity of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Engineering

Material Science

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