The Demonstration of Gate Dielectric-fuse 4kb OTP Memory Feasible for Embedded Applications in High-k Metal-gate CMOS Generations and beyond
E. R. Hsieh, C. W. Chang, C. C. Chuang, H. W. Chen, Steve S. Chung
研究成果: 書貢獻/報告類型 › 會議論文篇章 › 同行評審
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引文
斯高帕斯（Scopus）