跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立中央大學 首頁
說明與常見問題
English
中文
首頁
人才檔案
研究單位
研究計畫
研究成果
資料集
榮譽/獲獎
學術活動
新聞/媒體
影響
按專業知識、姓名或所屬機構搜尋
Study on PQ/PMMA Photopolymer Films Fabricated by Solvent Casting
Yu Hsiang Hsieh, Yung Cheng Cheng,
Te Yuan Chung
光電科學與工程學系
研究成果
:
雜誌貢獻
›
期刊論文
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Study on PQ/PMMA Photopolymer Films Fabricated by Solvent Casting」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
PQ-PMMA
100%
Photopolymer
100%
Solvent Casting
100%
Recording Time
50%
Refractive Index Difference
50%
Tetrahydrofuran
50%
Fold Increase
50%
Material Parameters
50%
Photochemical Reaction
50%
Polymerization Process
50%
Reaction Model
50%
Thermal Polymerization
50%
532 Nm Laser
50%
Average Refractive Index
50%
Engineering
Photopolymer
100%
Refractive Index
50%
Material Parameter
50%
Fold Increase
50%
Initial Concentration
50%
Reaction Model
50%
Polymerization Method
50%
Refractivity
50%
Material Science
Poly Methyl Methacrylate
100%
Plasticizer
100%
Refractive Index
50%
Film
50%
Thermal Polymerization
50%