Structural and electrical characteristics of low-dielectric constant porous hydrogen silsesquioxane for Cu metallization
J. H. Wang, W. J. Chen, T. C. Chang, P. T. Liu, S. L. Cheng, J. Y. Lin, L. J. Chen
研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
15
引文
斯高帕斯(Scopus)