跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立中央大學 首頁
說明與常見問題
English
中文
首頁
人才檔案
研究單位
研究計畫
研究成果
資料集
榮譽/獲獎
學術活動
新聞/媒體
影響
按專業知識、姓名或所屬機構搜尋
Sensors for ferric ion in plating solutions
Robert F. Savinell, Tianying Mi, Chi Jin Chen,
Chung Chiun Liu
材料科學與工程研究所
研究成果
:
專家出版物貢獻類型
›
文章
2
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Sensors for ferric ion in plating solutions」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering
Transients
100%
Sensor Output
100%
Current Output
100%
Microelectronics
100%
Ion Concentration
100%
Flow Solution
100%
Sensor Response
100%
Metallizations
100%
Chemical Sensor
100%
Mathematical Model
100%
Keyphrases
Plating Solution
100%
Ferric Ion
100%
Mathematical Model
33%
Output Current
33%
Sensor Output
33%
Microelectronics
33%
Ion Concentration
33%
Flow Effect
33%
Zinc
33%
Sensor Response
33%
Chemical Sensor
33%
Thick Film
33%
Quantitative Detection
33%
Sensor-based
33%
Metallization
33%
Citric Acid
33%
Electrochemical Principle
33%
Electroplating Bath
33%
Band Electrode
33%
Cathodic Potential
33%
Response-adapted
33%
Transient Current
33%
Iron Plating
33%
Solution Flow
33%
Potential Step
33%
Chemical Engineering
Citric Acid
100%
Metallizing
100%
Iron Plating
100%
Film
100%
Material Science
Plating
100%
Thick Films
33%