Rapid fabricating sub-50 nm FD-SOI: by secondary ion-cut processing

Benjamin T.H. Lee, Y. L. Chang, C. H. Huang, C. C. Ho, F. S. Lo, Y. R. Hwang

研究成果: 書貢獻/報告類型 › 會議論文篇章 › 同行評審

1 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Rapid fabricating sub-50 nm FD-SOI: by secondary ion-cut processing」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Engineering

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