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Plasma processing: An innovative technology for reforming CO
2
Been Chang Moo Been Chang
, Po Huang Chun Po Huang
環境工程研究所
研究成果
:
會議貢獻類型
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會議論文
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同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Plasma processing: An innovative technology for reforming CO
2
」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Innovative Technologies
100%
Gas Stream
100%
Plasma Processing
100%
Dielectric Barrier Discharge
66%
Flue Gas
33%
Room Temperature
33%
Operational Parameters
33%
Removal Efficiency
33%
O2 Content
33%
Simulated Gas
33%
Laboratory-scale Reactor
33%
Enhanced CO2
33%
Engineering
Gas Streams
100%
Plasma Applications
100%
Dielectrics
66%
Room Temperature
33%
Methane
33%
Removal Efficiency
33%
Main Product
33%
Flue Gas
33%
Chemical Engineering
Carbon Dioxide
100%
Plasma Process
100%
Gas Streams
42%