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Photorefractive properties of reduced BaTiO
3
:Rh at wavelengths of 514 nm and 633 nm
J. Y. Chang, C. Y. Huang, S. H. Duan,
C. C. Sun
光電科學與工程學系
研究成果
:
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同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Photorefractive properties of reduced BaTiO
3
:Rh at wavelengths of 514 nm and 633 nm」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Mathematics
Wavelength
100%
Trap
66%
Oxygen
44%
Atmosphere
43%
Electron
35%
Partial
23%
Response Time
21%
Decrease
15%
Dependent
11%
Chemical Compounds
Trap Density Measurement
79%
Wavelength
62%
Partial Pressure
33%
Reduction
23%
Electron Particle
18%
Dioxygen
16%
Time
6%
Engineering & Materials Science
Wavelength
76%
Partial pressure
41%
Electrons
35%
Oxygen
28%
Physics & Astronomy
wavelengths
41%
traps
39%
partial pressure
33%
atmospheres
24%
oxygen
21%
electrons
14%