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Phase formation and thermal stability of periodic Ni-silicide nanocontact arrays on epitaxial Si
1-x
C
x
layers on Si(1 0 0)
S. L. Cheng
, Y. C. Tseng,
S. W. Lee
, H. Chen
化學工程與材料工程學系
材料科學與工程研究所
研究成果
:
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同行評審
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指紋
指紋
深入研究「Phase formation and thermal stability of periodic Ni-silicide nanocontact arrays on epitaxial Si
1-x
C
x
layers on Si(1 0 0)」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Thermal Stability
100%
Epitaxial Si
100%
Si(111)
100%
Phase Formation
100%
Ni Silicide
100%
C(X)
100%
Nanocontact
100%
Formation Stability
100%
Ni Nanodots
80%
NiSi
60%
Nanowires
40%
Low Resistivity
40%
SiOx
40%
Annealing
20%
Heat Treatment
20%
Si Substrate
20%
Interfacial Reaction
20%
Ni Diffusion
20%
Beneficial Effects
20%
2-phase
20%
Growth Process
20%
Ni Metal
20%
NiSi2
20%
Miniaturized Size
20%
High Resistivity
20%
Interface Energy
20%
Process Window
20%
Diffusion Path
20%
Single Crystal Si
20%
High-temperature Annealing
20%
Solid-liquid-solid Mechanism
20%
Material Science
Thermal Stability
100%
Silicide
100%
Nanodots
100%
Nanocontact
100%
Electrical Resistivity
75%
Nanowire
50%
Annealing
25%
Heat Treatment
25%
Single Crystal
25%