跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立中央大學 首頁
說明與常見問題
English
中文
首頁
人才檔案
研究單位
研究計畫
研究成果
資料集
榮譽/獲獎
學術活動
新聞/媒體
影響
按專業知識、姓名或所屬機構搜尋
Oxidation behaviors of SiGe nanowire arrays fabricated by Au-assisted wet chemical etching
C. C. Lai, J. S. Lin,
S. L. Cheng
,
S. W. Lee
化學工程與材料工程學系
材料科學與工程研究所
研究成果
:
書貢獻/報告類型
›
會議論文篇章
›
同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Oxidation behaviors of SiGe nanowire arrays fabricated by Au-assisted wet chemical etching」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Nanowire Arrays
100%
Chemical Etching
100%
Oxidation Behavior
100%
SiGe Nanowires
100%
SiGe
66%
Oxygen Atmosphere
33%
Nanostructures
33%
Effective Approach
33%
Oxidation Rate
33%
Nanosphere Lithography
33%
AuSi
33%
Deep Trench
33%
Material Science
Oxidation Reaction
100%
Nanowire
100%
Wet Etching
100%
Nanocrystalline Material
20%
Lithography
20%
Nanosphere
20%
Alloying
20%
Chemical Engineering
Nanowires
100%
Lithography
25%
Nanosphere
25%