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Optimal use of analog and binary lithography for planar-integrated free-space optics fabrication
Matthias Gruber,
An Chi Wei
, Jürgen Jahns
能源工程研究所
研究成果
:
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同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Optimal use of analog and binary lithography for planar-integrated free-space optics fabrication」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Lithography
100%
Optical Fabrication
100%
Free Space Optics
100%
Cost Efficiency
50%
System Parameters
50%
Production Cost
50%
Optical Interconnects
50%
Reliability Cost
50%
Free-space Optical Systems
50%
Engineering
Lithography
100%
Free Space
100%
System Parameter
50%
Optical Interconnect
50%
Optical Systems
50%
Experimental Work
50%
Theoretical Work
50%
Physics
Optical Interconnect
100%
Space Optics
100%