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Numerical Study of Growth Rate and Purge Time in the AlN Pulsed MOCVD Process
Wei Jie Lin,
Jyh Chen Chen
臺灣經濟發展研究中心
機械工程學系
光電科學與工程學系
光電科學研究中心
研究成果
:
雜誌貢獻
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期刊論文
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同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Numerical Study of Growth Rate and Purge Time in the AlN Pulsed MOCVD Process」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Physics & Astronomy
metalorganic chemical vapor deposition
60%
purging
31%
pulses
31%
cycles
28%
numerical analysis
9%
injection
7%
augmentation
6%
Engineering & Materials Science
Metallorganic chemical vapor deposition
100%
Purging
29%
Numerical analysis
9%
Chemical Compounds
Time
22%
Purity
10%
Reduction
9%
Chemical Vapour Deposition
9%