跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立中央大學 首頁
說明與常見問題
連結會在新分頁中打開
English
中文
在 國立中央大學 搜尋內容
首頁
人才檔案
研究單位
研究計畫
研究成果
資料集
榮譽/獲獎
學術活動
新聞/媒體
影響
Numerical study of continuous Czochralski (CCz) silicon single crystal growth in a double-side heater
Thi Hoai Thu Nguyen
,
Jyh Chen Chen
臺灣經濟發展研究中心
機械工程學系
光電科學與工程學系
光電科學研究中心
研究成果
:
雜誌貢獻
›
期刊論文
›
同行評審
13
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Numerical study of continuous Czochralski (CCz) silicon single crystal growth in a double-side heater」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Bottom Wall
16%
Continuous Czochralski
100%
Crystal Quality
16%
Crystal-melt Interface
16%
Czochralski Growth
33%
Czochralski Silicon
100%
Double-sided
100%
Feeding Zone
16%
Flow Transport
16%
Heat Flow
16%
Heat Transport
16%
Heater
100%
Heater Power
33%
Interface Deflection
33%
Melting Temperature
33%
Oxygen Content
33%
Oxygen Transport
16%
Power Consumption
16%
Power Control
16%
Power Ratio
16%
Pulling Velocity
16%
Silicon Crystal
16%
Silicon Single Crystal Growth
100%
Single-side
33%
Wall Temperature
16%
Material Science
Crystal Growth From Melt
100%
Silicon
100%
Single Crystal Growth
100%