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Numerical study of continuous Czochralski (CCz) silicon single crystal growth in a double-side heater
Thi Hoai Thu Nguyen,
Jyh Chen Chen
臺灣經濟發展研究中心
機械工程學系
光電科學與工程學系
光電科學研究中心
研究成果
:
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期刊論文
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同行評審
5
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Numerical study of continuous Czochralski (CCz) silicon single crystal growth in a double-side heater」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering
Melting Temperature
100%
Oxygen Content
100%
Numerical Study
100%
Single Crystal Growth
100%
Silicon Single Crystal
100%
Heater Power
100%
Electric Power Utilization
50%
Bottom Wall
50%
Good Choice
50%
Power Control
50%
Crystal Quality
50%
Ratio of Power
50%
Feeding Zone
50%
Keyphrases
Czochralski Silicon
100%
Double-sided
100%
Heater
100%
Cz Silicon Single Crystal Growth
100%
Melting Temperature
33%
Oxygen Content
33%
Czochralski Growth
33%
Single-side
33%
Heater Power
33%
Interface Deflection
33%
Power Consumption
16%
Flow Transport
16%
Crystal Quality
16%
Oxygen Transport
16%
Crystal-melt Interface
16%
Power Ratio
16%
Heat Flow
16%
Power Control
16%
Silicon Crystal
16%
Heat Transport
16%
Wall Temperature
16%
Pulling Velocity
16%
Feeding Zone
16%
Material Science
Silicon
100%
Crystal Growth From Melt
100%
Single Crystal Growth
100%