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NO/NO
x
removal with C
2
H
2
as additive via dielectric barrier discharges
Moo Been Chang
, Shyh Chaur Yang
環境監測技術聯合中心
土木工程學系
環境工程研究所
研究成果
:
雜誌貢獻
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期刊論文
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同行評審
27
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「NO/NO
x
removal with C
2
H
2
as additive via dielectric barrier discharges」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Acetylene
100%
Applied Voltage
25%
Carrier Gas
25%
De-NOx
25%
Dielectric Barrier Discharge
100%
Discharge Process
25%
Effective Reduction
25%
Efficient Removal
25%
Formic Acid
25%
Gas Stream
100%
Gas Temperature
25%
Nitric Acid
25%
NOx Reduction
25%
NOx Removal
100%
O2 Content
25%
Oxygen Content
25%
Plasma Process
25%
Reducing Agent
25%
Removal Efficiency
75%
Engineering
Applied Voltage
25%
Carrier Gas
25%
Dielectrics
100%
Experimental Result
25%
Gas Streams
100%
Gas Temperature
25%
Oxygen Content
25%
Plasma Process
25%
Removal Efficiency
75%
Chemical Engineering
Carbon Dioxide
50%
Gas Streams
100%
Plasma Process
25%