MAGNETRON ENHANCED REACTIVE ION ETCHING OF SiO//2 AND Si.

I. Lin, D. C. Hinson, W. H. Class, R. L. Sandstrom, F. Pasierb

研究成果: 會議貢獻類型會議論文同行評審

6 引文 斯高帕斯(Scopus)
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頁面132-142
頁數11
出版狀態已出版 - 1983

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