MAGNETRON ENHANCED REACTIVE ION ETCHING OF SiO//2.

I. Lin, D. Hinson, W. Class, R. Sandstron

研究成果: 雜誌貢獻會議論文同行評審

9 引文 斯高帕斯(Scopus)
原文???core.languages.en_GB???
頁(從 - 到)254-255
頁數2
期刊Electrochemical Society Extended Abstracts
83-1
出版狀態已出版 - 1983

引用此