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Low-energy ion-enhanced deposition of SiO
2
in rf magnetron plasmas
I. Lin
, L. W. Ting
物理學系
研究成果
:
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同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「Low-energy ion-enhanced deposition of SiO
2
in rf magnetron plasmas」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Physics & Astronomy
adhesion
82%
adjusting
78%
bombardment
90%
energy
57%
flow velocity
77%
hollow
88%
ions
90%
low pressure
81%
refraction
88%
stoichiometry
93%
thin films
100%
vapor phases
77%