Low-energy high flux reactive ion etching by rf magnetron plasma

I. Lin, D. C. Hinson, W. H. Class, R. L. Sandstrom

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

41 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Low-energy high flux reactive ion etching by rf magnetron plasma」主題。共同形成了獨特的指紋。

Physics & Astronomy