In situ plasma monitoring of PECVD nc-Si:H Films and the influence of dilution ratio on structural evolution

Yu Lin Hsieh, Li Han Kau, Hung Jui Huang, Chien Chieh Lee, Yiin Kuen Fuh, Tomi T. Li

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19 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「In situ plasma monitoring of PECVD nc-Si:H Films and the influence of dilution ratio on structural evolution」主題。共同形成了獨特的指紋。

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Material Science