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In Situ Cleaning and Fluorination of Black Phosphorus for Enhanced Performance of Transistors with High Stability
Yu Ling Hsieh, Wen Hsuan Su, Cheng Chun Huang,
Ching Yuan Su
能源工程研究所
研究成果
:
雜誌貢獻
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期刊論文
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同行評審
16
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
研究計畫
(2)
指紋
深入研究「In Situ Cleaning and Fluorination of Black Phosphorus for Enhanced Performance of Transistors with High Stability」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Acids
11%
Air
3%
Black Phosphorus
100%
Carrier mobility
9%
Cleaning
48%
Corrosion
4%
Covalent bonds
10%
Digital circuits
7%
Electric properties
13%
Field effect transistors
20%
Fluorination
87%
Heterojunctions
8%
Hydrophobicity
8%
Logic circuits
7%
Molecules
6%
Nanoelectronics
9%
Oxygen
5%
Passivation
39%
Semiconductor materials
11%
Spin coating
9%
Substrates
4%
Thin films
6%
Transistors
44%
Water
3%
Chemical Compounds
Acid
4%
Black
46%
Chemical Passivation
32%
Compound Mobility
4%
Corrosion
4%
Covalent Bond
6%
Dioxygen
3%
Electrical Property
10%
Field Effect
12%
Flake Like Crystal
6%
Fluorination
56%
Hydrophobicity
5%
Molecule
2%
Phosphorus(.)
43%
Semiconductor
9%
Spin Coating
6%
Surface
4%