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High-aspect-ratio sub-diffraction-limit objects fabricated with two-photon-absorption photopolymerization
Ying Ja Chen, Yi Chun Chen, Chau Hwang Lee, Jyhpyng Wang
物理學系
研究成果
:
會議貢獻類型
›
會議論文
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同行評審
2
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「High-aspect-ratio sub-diffraction-limit objects fabricated with two-photon-absorption photopolymerization」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Aspect Ratio
50%
Diffraction Limit
100%
Femtosecond Laser
50%
Femtosecond Laser Pulses
50%
High Aspect Ratio
100%
Laser Oscillator
50%
Lateral Dimension
50%
Light Source
50%
Limit Object
100%
Micro-objects
100%
Mode-locking
50%
Multiphoton Absorption
50%
Numerical Aperture
50%
Objective Lens
50%
Photopolymerization
100%
Photoresist
50%
Sapphire Laser
50%
Two-photon Absorption
100%
Engineering
Aspect Ratio
50%
Diffraction Limit
100%
Femtosecond Laser
50%
Femtosecond Laser Pulse
50%
High Aspect Ratio
100%
Light Source
50%
Multiphoton Absorption
50%
Numerical Aperture
50%
Objective Lens
50%
Oscillator
50%
Photopolymerization
100%
Photoresist
50%
Sapphire Laser
50%
Physics
Aspect Ratio
100%
Laser Pulse
33%
Light Source
33%
Numerical Aperture
33%
Photon Absorption
100%