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Fusion bonding of copper and silicon at -70 °C by electrochemistry
Po Yen Chien, Lin Cheng, Cheng Ying Liu, Jhong En Li,
Benjamin Tien Hsi Lee
機械工程學系
研究成果
:
雜誌貢獻
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期刊論文
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同行評審
2
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
研究計畫
(2)
指紋
深入研究「Fusion bonding of copper and silicon at -70 °C by electrochemistry」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Electrochemistry
100%
Copper
58%
Fusion reactions
57%
Silicon
56%
Positive ions
53%
Thermal energy
42%
Wafer bonding
40%
Atoms
29%
Dangling bonds
26%
Secondary ion mass spectrometry
21%
Liquid nitrogen
18%
Electric fuses
14%
Ice
14%
Electric fields
13%
Chemical activation
12%
Semiconductor materials
12%
Temperature
11%
Substrates
10%
Chemical Compounds
Electrochemistry
65%
Energy
33%
Cation
31%
Dangling Bond
23%
Surface
22%
Silicon Atom
21%
Copper Atom
20%
Secondary Ion Mass Spectroscopy
19%
Interstitial
18%
Electric Field
16%
Semiconductor
13%
Strength
11%
Nitrogen
10%
Liquid
9%
Application
5%