Enhanced growth of CoSi2 on epitaxial Si0.7Ge 0.3 with a sacrificial amorphous Si interlayer

W. W. Wu, T. F. Chiang, S. L. Cheng, S. W. Lee, L. J. Chen, Y. H. Peng, H. H. Cheng

研究成果: 雜誌貢獻期刊論文同行評審

13 引文 斯高帕斯(Scopus)

指紋

深入研究「Enhanced growth of CoSi2 on epitaxial Si0.7Ge 0.3 with a sacrificial amorphous Si interlayer」主題。共同形成了獨特的指紋。

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