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Electrochemical characteristics of La-Ni-Al thin films
Chi Ying Vanessa Li, Zhong Min Wang, Shi Liu,
Sammy Lap Ip Chan
化學工程與材料工程學系
研究成果
:
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期刊論文
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同行評審
10
引文 斯高帕斯（Scopus）
總覽
指紋
指紋
深入研究「Electrochemical characteristics of La-Ni-Al thin films」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Electrochemical Characteristics
100%
NiAl
100%
LaNi4.25Al0.75
100%
Al Thin Film
100%
Microstructure
50%
X Ray Diffraction
50%
Bulk Material
50%
Electrochemical Performance
50%
Discharge Capacity
50%
Electrochemical Properties
50%
Discharge Potential
50%
Hydrogen Storage
50%
Cu Substrate
50%
Film Electrode
50%
Discharge Process
50%
Crystal Form
50%
Maximum Discharge
50%
AB5 Alloy
50%
Battery Testing
50%
DC Magnetron Sputtering
50%
Uniform Thickness
50%
Random Size
50%
Engineering
Thin Films
100%
Ray Diffraction
50%
Cross Section
50%
Bulk Material
50%
Magnetron
50%
Discharge Capacity
50%
Hydrogen Storage
50%
Form Crystal
50%
Physics
Thin Films
100%
Volume
100%
Scanning Electron Microscopy
50%
X Ray Diffraction
50%
Magnetron Sputtering
50%
Hydrogen Storage
50%
Crystal Morphology
50%
Material Science
Thin Films
100%
Film
100%
Scanning Electron Microscopy
16%
X-Ray Diffraction
16%
Magnetron Sputtering
16%
Electrochemical Property
16%
Focused Ion Beam
16%
Surface (Surface Science)
16%