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Effects of stress on formation of silicides on silicon-on-insulator wafers
C. H. Liu, S. C. Liew,
S. L. Cheng
, L. J. Chen
化學工程與材料工程學系
研究成果
:
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同行評審
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Effects of stress on formation of silicides on silicon-on-insulator wafers」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Tensile Stress
100%
Stress Effect
100%
Silicide
100%
Silicon-on-insulator Wafer
100%
Coefficient of Thermal Expansion
25%
X-ray Diffraction (XRD) Analysis
25%
Transmission Electron Microscopy
25%
Silica
25%
Nickel Silicide
25%
Silicon Layer
25%
Resistance Measurement
25%
Metal Silicide
25%
Sheet Resistance
25%
Ti Silicide
25%
Ni Silicide
25%
Atomic Diffusion
25%
Titanium Silicide
25%
Glancing Angle
25%
Engineering
Tensile Stress σ
100%
Silicon on Insulator
100%
Ray Diffraction
33%
Silicon Layer
33%
Sheet Resistance
33%
Glancing Angle
33%
Coefficient of Expansion
33%
High Tensile Stress
33%
Silicon Dioxide
33%
Atomic Diffusion
33%
Material Science
Silicon
100%
Ultimate Tensile Strength
100%
Silicide
100%
Thermal Expansion
25%
Titanium
25%
Transmission Electron Microscopy
25%