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Effects of Cu content on electrochemical response in Ti-based metallic glasses under simulated body fluid
C. H. Huang
, J. J. Lai
, J. C. Huang
, C. H. Lin
,
J. S.C. Jang
材料科學與工程研究所
研究成果
:
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期刊論文
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同行評審
17
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Effects of Cu content on electrochemical response in Ti-based metallic glasses under simulated body fluid」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Cu Content
100%
Ti-based Bulk Metallic Glass
100%
Electrochemical Response
100%
Simulated Body Fluid
100%
Corrosion
33%
Polarization Impedance
33%
Negative Effects
33%
Potentiodynamic Polarization
33%
Inductively Coupled Plasma Mass Spectrometry
33%
Biomedical Implants
33%
Opposite Effects
33%
Cu(II) Ions
33%
Metallic Glass
33%
Electrochemical Impedance Test
33%
Ecorr
33%
Open Circuit Potential
33%
Systematic Description
33%
Ion Release
33%
Hank's Solution
33%
Cu-free
33%
Engineering
Negative Effect
100%
Implant
100%
Open Circuit Potential
100%
Ion Release
100%
Electrical Impedance
100%
Material Science
Amorphous Metal
100%
Body Fluid
100%
Electronic Circuit
25%
Corrosion
25%
Copper Ion
25%
Electrical Impedance
25%
Chemical Engineering
Potentiodynamic Polarization
100%