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Design of Hybrid Schottky-Ohmic Gate in Normally-Off p-GaN Gate AlGaN/GaN HEMTs
Wen Shiuan Tsai, Zhen Wei Qin,
Yue Ming Hsin
電機工程學系
光電科學研究中心
研究成果
:
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期刊論文
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同行評審
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Design of Hybrid Schottky-Ohmic Gate in Normally-Off p-GaN Gate AlGaN/GaN HEMTs」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
GaN HEMT
100%
Schottky
100%
P-GaN
100%
Ohmic
100%
Normally-off
100%
Left-handed
33%
GaN Surface
33%
On-state
33%
Gate Structure
33%
Schottky Gate
33%
Right-sided
33%
Side Structure
33%
Contact Length
33%
Schottky Gate Contact
33%
P-GaN Gate
33%
Order of Magnitude
16%
Drain Current
16%
Gate Metal
16%
Gate Leakage
16%
Optimal Performance
16%
Gate Leakage Current
16%
Design Change
16%
Gate Geometry
16%
Metal Design
16%
Engineering
Contact Length
100%
Side Structure
100%
Current Drain
50%
Metal Gate
50%
Optimal Performance
50%
Contact Area
50%
Design Change
50%
Left Side
50%
Material Science
Surface (Surface Science)
100%
Contact Area
50%