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Copper/carbon nanotube composite interconnect for enhanced electromigration resistance
Yang Chai, Philip C.H. Chan, Yunyi Fu, Y. C. Chuang,
C. Y. Liu
化學工程與材料工程學系
光電科學研究中心
研究成果
:
書貢獻/報告類型
›
會議論文篇章
›
同行評審
41
引文 斯高帕斯(Scopus)
總覽
指紋
指紋
深入研究「Copper/carbon nanotube composite interconnect for enhanced electromigration resistance」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Keyphrases
Carbon Nanotube Composites
100%
Electromigration Resistance
100%
Room Temperature
42%
Electrical Conductivity
28%
Growth Rate
28%
Electromigration
28%
Carbon Nanotubes
28%
Void Growth
28%
Current Density
14%
Temperature Rise
14%
Temperature Range
14%
Low Resistivity
14%
Resistivity
14%
Pure Cu
14%
Copper Matrix
14%
Bottom-up Growth
14%
Comparison Testing
14%
Electrochemical Plating
14%
Integrated Circuit Interconnects
14%
Engineering
Electromigration
100%
Carbon Nanotube
100%
Interconnects
100%
Room Temperature
33%
Void Growth
22%
Temperature Range
11%
Temperature Increase
11%
Test Structure
11%
Integrated Circuit Interconnects
11%
Material Science
Carbon Nanotube
100%
Composite Material
100%
Electrical Resistivity
44%
Void Growth
22%
Density
11%
Electronic Circuit
11%
Plating
11%