Advances n-type nc-Si:H layers depositing on passivation layer applied to the back surface field prepared by RF-PECVD

Chia Cheng Lu, Yu Lin Hsieh, Pei Shen Wu, Chien Chieh Lee, Yen Ho Chu, Jenq Yang Chang, I. Chen Chen, Tomi T. Li

研究成果: 書貢獻/報告類型 › 會議論文篇章 › 同行評審

1 引文 斯高帕斯（Scopus）

指紋

深入研究「Advances n-type nc-Si:H layers depositing on passivation layer applied to the back surface field prepared by RF-PECVD」主題。共同形成了獨特的指紋。

Keyphrases

Engineering

Material Science

Chemical Engineering