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A self-focused multichannel electron beam source for annealing of ion-implanted semiconductors
Juh Tzeng Lue, Shyu Sheau-yang, Lyu Ling-Hsiao
太空科學與工程學系
研究成果
:
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同行評審
總覽
指紋
指紋
深入研究「A self-focused multichannel electron beam source for annealing of ion-implanted semiconductors」主題。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Field emission cathodes
100%
Electron beams
59%
Doping (additives)
55%
Tungsten
54%
Annealing
49%
Ions
46%
Chemical activation
44%
Semiconductor materials
44%
Silicon
39%
Chemical Compounds
Implanted Ion
70%
Electron Beam
54%
Cylinder
53%
Field Emission
49%
Tungsten
45%
Doping Material
43%
Annealing
39%
Semiconductor
38%
Cathode
36%
Physics & Astronomy
field emission
45%
tungsten
42%
cathodes
40%
activation
39%
electron beams
35%
damage
35%
annealing
29%
silicon
26%
ions
23%