產學合作計畫-半導體先進製程用之蝕刻液及清洗液配方開發(1/2)

專案詳細資料

狀態已完成
有效的開始/結束日期1/06/1831/05/19

Keywords

  • 半導體產業
  • 小尺寸先進製程
  • 濕式化學品
  • 濕式蝕刻液
  • 清洗液
  • 配方開發
  • 本土化學廠商
  • 高質化