晶圓級高對比近紅外線光學濾光膜設計與製作

采鈺科技針對可預見之科技趨勢，近紅外線窄帶濾光膜的需求極有可能從940nm延伸至更長波長，在未來的應用上光達產品需要更安全的雷射光源1350/1550nm。 此一波段之濾光膜，為了達到高穿透濾，且截止帶高光學密度的需求是可以預見。但是繼續採用過去鍍膜材料，似已不符需求。采鈺科技與中央大學合作在光學膜領域琢磨，計畫以新材料鍺的開發取代現有成熟的介電材料，利用鍺化合物來做為基礎鍍膜材料。此一材料過去鮮少用於光學元件中，但隨著科技演進鍺材料光學特性十分合適1350/1550nm波長，但是鍺材料的系統鍺何須要費一番工夫。材料應力、耐用性、和矽晶圓整合性都需要研究評估。鍺材料的鍍膜技術與參數會影響其光學特性及應力特性，采鈺計畫以物理沉積機台去執行此一製程，而機台猜數調整與各項特性的測量，都需要有相對應的測量設備。除了鍍膜在玻璃表面，采鈺並計畫直接製作晶圓級製程中，期待透過此次計畫將之實現，並可達到光學元件微小化的目的。此一研究成果若能成功，將會提供更安全的使用環境，不傷眼，高訊噪比的光達類型的產品，不僅從手機走向汽車先進駕駛輔助系統，提供消費者更先進與安全的光學系統。