PQ:PMMA及相近photopolymer深度研究－從材料開發製成精進、VBG記錄理論模型與方程式建立到光學應用及光學元件製作研究(3/3)

本計劃研究對象為PQ:PMMA photopolymer，內容涵蓋化學、材料、光學、雷射，為一跨領域之研究計畫，研究面向從理論、模擬、實驗到製作，最終可製作光學元件以應用在不同光學雷射領域，學術上拓展了photopolymer的領域，實用上發展了更多有商業價值以PMMA為基礎的雷射與光學應用