PQ:PMMA及相近photopolymer深度研究-從材料開發製成精進、VBG記錄理論模型與方程式建立到光學應用及光學元件製作研究(3/3)

專案詳細資料

Description

本計劃研究對象為PQ:PMMA photopolymer,內容涵蓋化學、材料、光學、雷射,為一跨領域之研究計畫,研究面向從理論、模擬、實驗到製作,最終可製作光學元件以應用在不同光學雷射領域,學術上拓展了photopolymer的領域,實用上發展了更多有商業價值以PMMA為基礎的雷射與光學應用
狀態已完成
有效的開始/結束日期1/08/2131/07/22

Keywords

  • 光聚合物
  • PQ:PMMA
  • 體積全像布拉格光柵
  • 反應擴散速率聯立微分方程式
  • 二階光柵
  • 雙折射
  • 先進半導體雷射光學元件
  • 零階波板