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二維凡德瓦薄膜的物理特性研究–分子束磊晶技術發展與晶體結構、電子結構解析(1/3)
Lin, Meng-Kai
(PI)
物理學系
概覽
指紋
研究成果
(2)
專案詳細資料
Description
隨著科技的進步,電子元件的設計逐漸往奈米尺度發展。當元件縮小到奈米尺度,電子結構的耦合、電子自旋特性、晶格結構等將與巨觀的塊材狀態有著極大的不同,也因此低維度材料在應用上有著很大的潛力;然而,奈米尺度薄膜製備的困難度以及急遽的物理性質變化,在應用技術的開發上仍有許多需要克服的問題。本研究將著重在發展奈米層級凡得瓦二維薄膜以及其異質結構的製備方法,並藉由不同的材料分析技術,如角解析光電子能譜、掃描穿遂顯微術/電子譜、x-ray繞射等技術,理解奈米層級材料的電子自旋特性、晶格以及電子結構。此研究的方向主要有二。(一)凡得瓦二維材料從單層到塊材極限的轉變:相關的物理系統包含拓樸材料、電荷密度波材料、超導材料等;研究主要探討當系統維度縮小至奈米尺度,量子效應以及對稱性縮減如何改變材料的物理特性,如電子自旋結構、電荷密度波週期、超導相變隨層數的變化等。(二)凡得瓦二維薄膜異質結構:此研究主要探討凡得瓦異質結構中層間電子結構的耦合,如不同電荷密度波週期的耦合、拓樸表面態在金屬覆蓋層中的傳播特性、超導態與拓樸表面態的作用等物理性質。此研究將提供新穎奈米材料的製備方法以及詳盡的物理特性解析。
狀態
已完成
有效的開始/結束日期
1/11/21
→
31/10/22
檢視所有
檢視較少
Keywords
過渡金屬硫化物
拓撲材料
二維異質結構
角解析光電子能譜
電子結構電荷
密度波
量子尺度效應
指紋
探索此專案觸及的研究主題。這些標籤是根據基礎獎勵/補助款而產生。共同形成了獨特的指紋。
Bismuth Telluride
Keyphrases
100%
Topological Surface States
Keyphrases
83%
Thin Films
Material Science
83%
Heterojunction
Material Science
83%
Surface (Surface Science)
Material Science
75%
Overlayer
Keyphrases
66%
Heterostructure
Keyphrases
54%
Interface States
Keyphrases
50%
研究成果
每年研究成果
2022
2022
2022
2
期刊論文
每年研究成果
每年研究成果
Emergence of topological and trivial interface states in VSe2 films coupled to Bi2Se3
Hlevyack, J. A., Chan, Y. H.,
Lin, M. K.
, He, T., Peng, W. H., Royal, E. C., Chou, M. Y. & Chiang, T. C.,
15 5月 2022
,
於:
Physical Review B.
105
,
19
, 195119.
研究成果
:
雜誌貢獻
›
期刊論文
›
同行評審
開啟存取
Bismuth Telluride
100%
Interface States
100%
VSe2
100%
First Principle
100%
Spintronics
100%
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
Emergent and Tunable Topological Surface States in Complementary Sb/Bi
2
Te
3
and Bi
2
Te
3
/Sb Thin-Film Heterostructures
Li, Y., Bowers, J. W., Hlevyack, J. A.,
Lin, M. K.
& Chiang, T. C.,
28 6月 2022
,
於:
ACS Nano.
16
,
6
,
p. 9953-9959
7 p.
研究成果
:
雜誌貢獻
›
期刊論文
›
同行評審
開啟存取
Overlayer
100%
Bismuth Telluride
100%
Topological Surface States
100%
Sb Thin Film
100%
Thin Film Heterostructure
100%
4
引文 斯高帕斯(Scopus)