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查看斯高帕斯 (Scopus) 概要
伊 林
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物理學系
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lini
phy.ncu.edu
tw
網站
https://www.phy.ncu.edu.tw/faculty/%E4%BC%8A%E3%80%80%E6%9E%97-lin-i/
h-index
3458
引文
22
h-指數
按照存儲在普爾(Pure)的出版物數量及斯高帕斯(Scopus)引文計算。
1980 …
2022
每年研究成果
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110
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14
會議論文篇章
5
會議論文
3
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2
更多
2
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每年研究成果
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會議論文
搜尋結果
2004
2D dusty plasma liquids in mesoscopic channels
Tu, P. S.
,
Chan, C. L.
,
Teng, L. W.
,
Woon, W. Y.
&
Lin, I.
,
2004
,
於:
Physica Scripta T.
T107
,
p. 98-101
4 p.
研究成果
:
雜誌貢獻
›
會議論文
›
同行評審
dusty plasmas
100%
Plasma
90%
Liquid
80%
Motion
45%
liquids
44%
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
2002
Melting dynamics in thermal and stress driven Coulomb clusters
Lai, Y. J.
,
Juan, W. T.
&
Lin, I.
,
2002
,
於:
Physica Scripta T.
98
,
p. 77-80
4 p.
研究成果
:
雜誌貢獻
›
會議論文
›
同行評審
Melting
100%
Fluidization
64%
melting
58%
circular shells
35%
Stick-slip
28%
2
引文 斯高帕斯(Scopus)
1983
HIGH RATE MAGNETRON ION ETCHING FOR SILICON DEVICES.
Lin, I.
,
Hinson, D. C.
,
Class, W. H.
,
Stander, R.
,
Hill, M.
&
Vanden Bossche, W.
,
8月 1983
.
研究成果
:
會議貢獻類型
›
會議論文
›
同行評審
Etching
100%
Ion bombardment
99%
Plasmas
85%
Ions
85%
Silicon
73%
MAGNETRON ENHANCED REACTIVE ION ETCHING OF SiO//2.
Lin, I.
,
Hinson, D.
,
Class, W.
&
Sandstron, R.
,
1983
,
於:
Electrochemical Society Extended Abstracts.
83-1
,
p. 254-255
2 p.
研究成果
:
雜誌貢獻
›
會議論文
›
同行評審
9
引文 斯高帕斯(Scopus)
MAGNETRON ENHANCED REACTIVE ION ETCHING OF SiO//2 AND Si.
Lin, I.
,
Hinson, D. C.
,
Class, W. H.
,
Sandstrom, R. L.
&
Pasierb, F.
,
1983
,
p. 132-142
.
11 p.
研究成果
:
會議貢獻類型
›
會議論文
›
同行評審
6
引文 斯高帕斯(Scopus)