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專案
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Evolution of a-Si:H to nc-Si:H transition of hydrogenated silicon films deposited by trichlorosilane using principle component analysis of optical emission spectroscopy
Wang, S. H., Chang, H. E., Lee, C. C., Fuh, Y. K. & Li, T. T., 15 1月 2020, 於: Materials Chemistry and Physics. 240, 122186.研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
7 引文 斯高帕斯（Scopus） -
Correlation of impedance matching and optical emission spectroscopy during plasma-enhanced chemical vapor deposition of nanocrystalline silicon thin films
Kau, L. H., Huang, H. J., Chang, H. E., Hsieh, Y. L., Lee, C. C., Fuh, Y. K. & Li, T. T., 1 5月 2019, 於: Coatings. 9, 5, 305.研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
開啟存取1 引文 斯高帕斯（Scopus） -
Large-scale data analysis of PECVD amorphous silicon interface passivation layer via the optical emission spectra for parameterized PCA
Huang, H. J., Kau, L. H., Wang, H. S., Hsieh, Y. L., Lee, C. C., Fuh, Y. K. & Li, T. T., 17 3月 2019, 於: International Journal of Advanced Manufacturing Technology. 101, 1-4, p. 329-337 9 p.研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
7 引文 斯高帕斯（Scopus） -
Plasma process optimization of silicon film deposition from trichlorosiliane precursor with OES monitoring
Lee, C. C., Wang, S. H., Chang, H. E., Fuh, Y. K., Li, T. T., Chiou, Y. H. & Cheng, H. C., 3月 2019, China Semiconductor Technology International Conference 2019, CSTIC 2019. Claeys, C., Huang, R., Wu, H., Lin, Q., Liang, S., Song, P., Guo, Z., Lai, K., Zhang, Y., Qu, X., Lung, H-L. & Yu, W. (編輯). Institute of Electrical and Electronics Engineers Inc., 8755637. (China Semiconductor Technology International Conference 2019, CSTIC 2019).研究成果: 書貢獻/報告類型 › 會議論文篇章 › 同行評審
1 引文 斯高帕斯（Scopus） -
Improved process stability on an extremely thin amorphous/crystalline silicon interface passivation layer by using predeposition on the chamber wall
Hsieh, Y. L., Tseng, C. L., Lee, C. C., Fuh, Y. K., Chang, J. Y., Lee, J. Y. & Li, T. T., 2018, 於: ECS Journal of Solid State Science and Technology. 7, 8, p. P355-P361研究成果: 雜誌貢獻 › 期刊論文 › 同行評審
3 引文 斯高帕斯（Scopus）