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查看斯高帕斯 (Scopus) 概要
周 正堂
教授
化學工程與材料工程學系
電子郵件
t310030
ncu.edu
tw
網站
http://www.cme.ncu.edu.tw/products_detail/4.htm
h-index
963
引文
15
h-指數
按照存儲在普爾(Pure)的出版物數量及斯高帕斯(Scopus)引文計算。
1986 …
2021
每年研究成果
概覽
指紋
網路
研究計畫
(6)
研究成果
(43)
類似的個人檔案
(6)
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指紋
查看啟用 Cheng-Tung Chou 的研究主題。這些主題標籤來自此人的作品。共同形成了獨特的指紋。
排序方式
重量
按字母排序
Engineering & Materials Science
Adsorption
100%
Carbon dioxide
34%
Recovery
25%
Flue gases
21%
Polyaniline
21%
Oxygen
21%
Synthesis gas
18%
Hydrogen
16%
Zeolites
16%
Desorption
15%
Adsorbents
15%
Nanoimprint lithography
15%
Temperature
14%
Water gas shift
14%
Air
13%
Sorbents
12%
Vacuum
12%
Nanostructures
11%
Gases
10%
Sputtering
9%
Mold release agents
9%
Steam
9%
Greenhouse gases
8%
Chemical vapor deposition
8%
Silanes
8%
Tellurium
8%
Fabrication
7%
Electrochemical deposition
7%
Electron beam lithography
7%
Nitrogen
7%
Field emission
7%
Styrene
7%
Nanorods
7%
Cyclohexane
7%
Power plants
7%
Silicon
7%
Splines
6%
Crystallinity
6%
Dehydrogenation
6%
Magnetron sputtering
6%
Radial flow
6%
Annealing
6%
Butane
6%
Contact angle
6%
Nitrates
6%
Interfacial energy
6%
Physical vapor deposition
6%
Carbon capture
6%
Data storage equipment
5%
Acids
5%
Chemical Compounds
Pressure
41%
Adsorption
40%
Simulation
29%
Flue Gas
23%
Carbon Dioxide
15%
Dioxygen
12%
Purity
12%
Liquid Film
11%
Zeolite
11%
Vacuum
10%
Electron Beam
10%
Adsorbent
8%
Modification
8%
Gas
8%
Hydrogen
8%
Desorption
7%
Etching
7%
Time
7%
Heat
7%
Thermal Plasma
6%
Radioactive Tracer
6%
Benzoxazine
6%
Nanomaterial
6%
Silsesquioxane
6%
Amount
5%
Inductively Coupled Plasm Mass Spectrometry (ICPMS)
5%
Coating Agent
5%
Synthesis Gas
5%
Length
5%
Magnetron Sputtering
5%
Surface Free Energy
5%
Reynolds Number
5%
Butane
5%
Sputtering
5%
Jet
5%
Plasma
5%
Nitrogen
5%
Physics & Astronomy
lithography
12%
filaments
11%
spiking
7%
adsorption
7%
electron beams
7%
synthesis gas
6%
stripping
6%
evaluation
6%
electrodes
6%
hydrogen
6%
nanofabrication
5%
random access memory
5%
zeolites
5%
silanes
5%
carbon dioxide
5%