跳至主導覽
跳至搜尋
跳過主要內容
國立中央大學 首頁
說明與常見問題
English
中文
首頁
人才檔案
研究單位
研究計畫
研究成果
資料集
榮譽/獲獎
學術活動
新聞/媒體
影響
按專業知識、姓名或所屬機構搜尋
理學院
國立中央大學
電話
886-3-4227151 ext.65000
電子郵件
[email protected]
網站
https://www.science.ncu.edu.tw/
概覽
指紋
網路
人才檔案
(123)
研究計畫
(870)
研究成果
(12232)
資料集
(4495)
榮譽/獲獎
(2)
影響
(1)
研究成果
每年研究成果
1972
2006
2007
2009
2010
2011
2012
2013
2014
2015
2016
2017
2018
2019
2020
2021
2022
2023
2025
434456
引文
228
h-指數
10536
期刊論文
967
會議論文篇章
355
會議論文
130
評論/辯論
244
更多
107
回顧評介論文
53
篇章
32
通訊期刊論文
22
專書
22
編者言
7
前言/後記
1
短篇回顧評介論文
每年研究成果
每年研究成果
350個結果中的 - 355355
出版年份,標題
(降序)
出版年份,標題
(升序)
標題
類型
篩選
會議論文
搜尋結果
1988
ENERGY LOCALIZATION IN INFRARED MULTIPHOTON EXCITED CF
2
Cl
2
STUDIED BY TIME RESOLVED RAMAN SPECTROSCOPY
Wang, J.
, Chen, K. H. & Mazur, E.,
1988
,
於:
Optics InfoBase Conference Papers.
WC7.
研究成果
:
雜誌貢獻
›
會議論文
›
同行評審
1984
COMPUTER SIMULATION OF LOOSE ABRASIVE GRINDING.
Chang, R. S.
,
1984
,
p. 148-149
.
2 p.
研究成果
:
會議貢獻類型
›
會議論文
›
同行評審
Looser Abrasive Grinding
100%
Grinding (Machining)
100%
Color Center
100%
Oscillation
50%
Time-dependent Simulation
50%
1
引文 斯高帕斯(Scopus)
1983
HIGH RATE MAGNETRON ION ETCHING FOR SILICON DEVICES.
Lin, I.
, Hinson, D. C., Class, W. H., Stander, R., Hill, M. & Vanden Bossche, W.,
8月 1983
.
研究成果
:
會議貢獻類型
›
會議論文
›
同行評審
Magnetron
100%
Ion Etching
100%
Ion Bombardment
100%
Silicon Devices
100%
Blood Plasma
100%
MAGNETRON ENHANCED REACTIVE ION ETCHING OF SiO//2.
Lin, I.
, Hinson, D., Class, W. & Sandstron, R.,
1983
,
於:
Electrochemical Society Extended Abstracts.
83-1
,
p. 254-255
2 p.
研究成果
:
雜誌貢獻
›
會議論文
›
同行評審
9
引文 斯高帕斯(Scopus)
MAGNETRON ENHANCED REACTIVE ION ETCHING OF SiO//2 AND Si.
Lin, I.
, Hinson, D. C., Class, W. H., Sandstrom, R. L. & Pasierb, F.,
1983
,
p. 132-142
.
11 p.
研究成果
:
會議貢獻類型
›
會議論文
›
同行評審
7
引文 斯高帕斯(Scopus)
‹ 上一頁
1
2
3
4
5
6
7
8